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ARW-681A 小型ウエハ向けＣＭＰ実験装置
多様化するMEMS CMPプロセスに対応
■新規開発ヘッドによる微細荷重制御
■最大10レシピホールド可能
■交換容易なコンディショナーレイアウト
■クラス最少のフットプリント
■アプリケーションによりカスタマイズ
※その他MEMSウエハ対応の洗浄装置も取り扱っております。
商品詳細
| 対応Wfサイズ | 3"-4" |
|---|---|
| プラテンサイズ | 400mm |
| LD-UnLD | マニュアル |
| フットプリント | W700xD600xH1800mm |
| ドレスサイズ | 190mm dia. wheel |
| Dry-In Wet-Out | |
| 対応アプリケーション | CMP／CMP部材評価 |
装置仕様表